МОСКВА, 22 марта. /ТАСС/. Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил в Telegram-канале мэр Москвы Сергей Собянин.

"В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", - говориться в сообщении.

Собянин отметил, что фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом. Также мэр подчеркнул, что отечественный фотолитограф "серьезно отличается от зарубежных аналогов", так как в нем использовался твердотельный лазер в качестве излучения.

Собянин также сообщил, что сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.