Inversion Semiconductor targets ASML with particle-accelerator X-ray lithography

Дата публикации: 03-08-2026 07:48:52

Inversion Semiconductor is developing a particle-accelerator lithography platform that it says could deliver shorter wavelengths, higher throughput and denser chips than today's extreme ultraviolet systems, offering a new route beyond ASML's EUV architecture.

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	xLight bets on EUV light source, eyes ASML deal	0	15.09	03-08-2026
2	Pat Gelsinger joins xLight in bid to bring TSMC into US-made lithography project	0	7.97	03-08-2026
3	Как из расплавленного олова и невидимого света создают микросхемы толщиной ...	0	6.39	23-07-2026
4	Algorithms create foundry-ready photonic circuits	0	8.59	24-07-2026
5	Viatron Expands Semiconductor Equipment Portfolio, Targets Epitaxial CVD Revenue	5	7	10-07-2026
6	Через пару лет техника еще раз подорожает – и дело ...	0	7	18-07-2026
7	Через пару лет техника еще раз подорожает – и дело ...	0	7	18-07-2026
8	В России создали литограф для 150-нанометровых чипов	5	7	20-07-2026
9	Intel offers bonuses to speed up Ohio fab construction and reaches EMIB-T yields of 90%	0	14.73	03-08-2026
10	Таинственный производитель чипов запустит корпусирование микросхем под Москвой	0	10	24-07-2026

Классификация: Пресс-релизы. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 14.13. Источник: www.digitimes.com.