Китай показал прототип EUV-литографа, но до активного использования еще несколько лет
Китайская компания Landau Flint продемонстрировала прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), который подходит для производства новейших чипов с техпроцессом меньше 7 нм. Обещают уровень локализации выше 90% и технологический подход, сопоставимый с решениями ведущих мировых производителей, такими как ASML.
Однако на практике есть нюансы. FlintNano LPP-OXXO имеет лазер на 1 кВт с частотой от 1 до 20 кГц, при этом заявленная мощность EUV – лишь 15 Вт, а время непрерывной работы – 100 часов. Обещают стабильность плазмы на уровне 3% RMS и энергетическую стабильность 5%. Проблема лишь в том, что такой мощности не хватит для производства сложных чипов: современные станки ASML имеют EUV на сотни ватт, так что Landau Flint еще есть над чем работать.
Присоединяйтесь к нам:
🔻 Группа VK: vk.ru/box_movie_new (Тематика: 👉 Фильмы)
🔻 Группа VK: vk.com/club235598284 (Тематика: 👉 Космос)
ВЫГОДНО:
🔥 КУПИТЬ / ПРОДАТЬ ключи TF2: https://vk.cc/d29I8W
🔥 КУПИТЬ АККАУНТЫ CS2 С ПРАЙМОМ: https://vk.cc/d29I8W